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解決方案
堿性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)
酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)
退錫水再生回用系統(tǒng)
微蝕刻液提銅設(shè)備
酸性、堿性廢氣處理
有機(jī)廢氣處理設(shè)備
電催化高氨氮處理設(shè)備
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酸性、堿性廢氣處理
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產(chǎn)品工作原理

酸性/堿性廢氣,有機(jī)廢氣處理 

設(shè)計(jì)依據(jù)及排放標(biāo)準(zhǔn) 
1 規(guī)范 
(1)《中華人民共和國(guó)環(huán)境保護(hù)法》,1989年12月 
(2)《中華人民共和國(guó)大氣污染防治法》,2000年9月 
(3)《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB16297-1996) 
(4)《中華人民共和國(guó)國(guó)家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》(GBZ2-2002) 
(5)《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB21900-2008) 
(6) 環(huán)境工程設(shè)計(jì)手冊(cè)《環(huán)境廢氣控制卷》 
2  排放濃度標(biāo)準(zhǔn) 
(1)有機(jī)廢氣排放標(biāo)準(zhǔn) 

本項(xiàng)目有機(jī)廢氣中的甲醛、甲苯、二甲苯和非甲烷總烴排放執(zhí)行《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB16297-1996)表2的二級(jí)標(biāo)準(zhǔn),見表2-1。 

表2-1 有機(jī)廢氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)

污染物名稱 排放標(biāo)準(zhǔn) 監(jiān)控點(diǎn) 濃度(mg/m3
甲醛 25mg/m3,0.26kg/h(15m) 周界外濃度最高點(diǎn) 0.20
甲苯 40mg/m3,3.1kg/h(15m) 周界外濃度最高點(diǎn) 2.4
二甲苯1.2 70mg/m3,1.0kg/h(15m) 周界外濃度最高點(diǎn) 1.2
非甲烷總烴 120mg/m3,10kg/h(15m) 周界外濃度最高點(diǎn) 4.0


 (2)酸性廢氣排放標(biāo)準(zhǔn)

本項(xiàng)目酸性廢氣中硫酸霧、氯化氫、氮氧化物和氰化氫排放執(zhí)行《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB21900-2008)表5中排放限值,見表2-3

表2-3 擬建項(xiàng)目電鍍廢氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)

  

污染物名稱 標(biāo)準(zhǔn)排放限值(mg/m3 備         注
氯化氫 30 排氣筒最低高度15m
硫酸霧 30 排氣筒最低高度15m
氮氧化物 200 排氣筒最低高度15m
HCN 0.5 排氣筒最低高度25m